Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Zinc (Zn) Sputtering Targets, indium

Zinc (Zn) Sputtering Targets, indium
Harga reguler Rp 15.130.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 15.130.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Sputtering target zinc (Zn) adalah material sumber logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD). Selama sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target dan melepaskan atom seng, yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Sebagai target logam unsur, seng umumnya digunakan dalam reactive sputtering, di mana gas reaktif seperti oksigen membentuk film senyawa berbasis seng.

  • 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Deposisi lapisan tipis seng oksida (ZnO) melalui reactive sputtering
  • Riset oksida konduktif transparan dan perangkat optoelektronik
  • Lapisan fungsional dan pelindung pada substrat kaca atau logam
  • Pembuatan prototipe sensor dan perangkat semikonduktor lapis tipis

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—