Target sputtering seng (zinc sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,95%, ukuran 1'' dan ketebalan 0,125'', tersedia dalam versi indium. Target berfungsi sebagai sumber material pada sistem deposisi sputter: atom dikikis dari permukaan target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat, misalnya wafer silikon.
Metode sputtering dapat melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, serta memberikan hasil yang dapat diulang. Proses ini cocok untuk riset dan pengembangan skala kecil dan dapat ditingkatkan ke produksi batch dengan area substrat menengah hingga besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau pada substrat.
Banyaknya parameter yang dapat diatur membuat deposisi sputter tergolong kompleks, namun justru memberi kendali besar kepada pengguna berpengalaman atas pertumbuhan dan struktur mikro lapisan.
- Deposisi lapisan tipis seng pada substrat seperti wafer silikon.
- Sputter etching ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material melalui pengikisan, misalnya spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkadar sangat rendah.
- Penelitian pelapukan antariksa (space weathering), yaitu perubahan permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan akibat sputtering.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01ZN27
- Material: Seng (Zn)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,125''
- Varian: Indium
—
—