Target sputtering seng (zinc sputtering target) dari Nanografi ini dilengkapi indium, memiliki kemurnian 99,99%, ukuran 2'' dan ketebalan 0,125''. Produk ini berfungsi sebagai bahan sumber untuk membentuk lapisan tipis seng pada sistem pelapisan sputter.
Deposisi sputter dapat diterapkan pada substrat dengan beragam bentuk dan ukuran. Hasilnya dapat diulang, dan proses yang dikembangkan pada skala riset dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat sedang hingga besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat.
Banyaknya parameter yang dapat diatur memberi pengguna berpengalaman kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis, yaitu material yang terkikis dari target diendapkan ke substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) bila diperlukan etsa dengan anisotropi tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS), di mana material yang tersputter dengan laju konstan diidentifikasi untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Kajian pelapukan antariksa (space weathering), ketika sputtering mengubah permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01ZN28
- Material: Seng (Zn)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,125''
- Bonding: Indium
- Kode produk: NG0ST01ZN28
—
—