Sputtering target zinc (Zn) adalah sumber logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan lapisan tipis zinc atau senyawa zinc pada substrat. Zinc merupakan logam yang banyak dipelajari dalam ilmu material, dan target-nya umum digunakan dalam sistem sputtering untuk penelitian dan pengembangan lapisan fungsional.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Reactive sputtering lapisan tipis zinc oksida (ZnO) untuk riset lapisan konduktif transparan
- Pengembangan lapisan buffer dan window untuk studi sel surya lapisan tipis
- Riset lapisan optik dan pelindung
- Studi fundamental pertumbuhan lapisan tipis logam dan oksida
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—