Zinc (Zn) sputtering target adalah lempeng logam padat yang digunakan dalam sistem physical vapor deposition (PVD). Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target dan melepaskan atom zinc yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Zinc merupakan logam yang banyak dipelajari dalam riset lapisan tipis, dan target ini umum digunakan untuk mendeposisi film berbasis zinc, termasuk lapisan zinc oxide melalui reactive sputtering.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset deposisi lapisan tipis untuk perangkat semikonduktor dan optoelektronik
- Pengembangan film zinc oxide (ZnO) untuk studi elektroda transparan dan sensor
- Lapisan pelindung dan anti-korosi pada substrat laboratorium
- Pengembangan lapisan sel surya dan fotovoltaik dalam R&D akademik maupun industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—