Target sputtering zinc (Zn) adalah cakram atau pelat logam padat yang digunakan sebagai material sumber dalam proses sputtering physical vapor deposition (PVD). Zinc merupakan logam yang banyak dipelajari dalam riset lapisan tipis, dan targetnya umum digunakan untuk mendeposisi film berbasis zinc, termasuk lapisan zinc oxide yang diproduksi melalui reactive sputtering.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis zinc oxide (ZnO) melalui reactive sputtering
- Riset lapisan penyangga dan lapisan jendela pada sel surya lapisan tipis
- Pengembangan film konduktif transparan dan optoelektronik
- Lapisan logam pelindung dan tahan korosi
- Studi dasar material lapisan tipis berbasis zinc
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—