Target sputtering zinc (Zn) adalah potongan logam zinc padat yang digunakan sebagai material sumber dalam physical vapor deposition (sputtering). Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target dan melepaskan atom zinc yang kemudian mengendap pada substrat sebagai lapisan tipis. Sebagai target logam, zinc banyak digunakan dalam riset lapisan pelindung dan film tipis fungsional.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi film tipis berbasis zinc untuk riset lapisan zinc oksida (ZnO)
- Pembuatan lapisan penyangga atau fungsional pada prototipe sel surya film tipis
- Pengembangan lapisan logam pelindung dan tahan korosi
- Studi film tipis untuk riset perangkat optoelektronik dan semikonduktor
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—