Target sputtering Zinc (Zn) adalah cakram atau pelat padat dari unsur seng, logam yang digunakan sebagai material sumber dalam physical vapor deposition (PVD). Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target dan melepaskan atom seng yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Target seng umumnya digunakan sebagai prekursor logam untuk deposisi film berbasis seng, termasuk lapisan seng oksida yang dihasilkan melalui sputtering reaktif dalam atmosfer yang mengandung oksigen.
- Jumlah: 1 buah
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis seng oksida (ZnO) untuk riset konduktif transparan dan semikonduktor
- Pengembangan lapisan penyangga dan kontak untuk studi sel surya lapisan tipis
- Pembuatan lapisan optik dan pelindung dalam riset material
- Pengembangan proses mikroelektronika, termasuk studi metalisasi dan lapisan penghalang
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—