2,4,6-Tris(trifluoromethyl)benzenesulfonyl Chloride (CAS 944453-80-9) adalah bahan kimia produksi Tokyo Chemical Industry (TCI) Jepang dengan kode produk T4302. Rumus molekulnya C9H2ClF9O2S. Kemurnian yang tersedia >95.0%(HPLC)(T).
Produk ini termasuk kategori Building Blocks, kelompok Fluorinated Building Blocks, dan umumnya dipakai sebagai senyawa antara (intermediate) untuk merangkai molekul yang lebih kompleks dalam sintesis organik. Dalam katalog TCI, kategori ini berada di bawah bidang Chemistry.
Spesifikasi 2,4,6-Tris(trifluoromethyl)benzenesulfonyl Chloride
- Kode produk TCI: T4302
- Nomor CAS: 944453-80-9
- Rumus molekul: C9H2ClF9O2S
- Kemurnian: >95.0%(HPLC)(T)
- Kemasan: 1g
Perhatikan kemurnian dan kondisi penyimpanan yang tercantum, karena keduanya memengaruhi hasil percobaan. Untuk kebutuhan volume besar atau spesifikasi khusus, tim kami dapat mengecek ketersediaan langsung ke TCI Jepang.
Dokumen Keamanan dan Mutu
AMI Scientific (PT Advanced Material Indonesia) adalah distributor resmi TCI di Indonesia. Hubungi kami untuk harga, ketersediaan, dan estimasi waktu pengiriman.
Kelebihan (brosur TCI)
- Memungkinkan proteksi dan deproteksi berbagai amina primer/sekunder lebih efisien dan sederhana dibanding gugus Ns (Nosyl).
- Memungkinkan deproteksi yang kemoselektif.
- Tahan terhadap reaksi kompetitif.
- Amida Nms dapat diubah menjadi turunan amida atau urea melalui deprotective functionalization.
Brosur TCI (PDF)
- Reagent for Incorporating a High-Performance Protecting Group (Nms) into Amines 2025-07-10 · hal. 1
Produk TCI terkait
- TCI T3508 220227-84-9 3-(Trifluoromethoxy)benzenesulfonyl Chloride
- TCI T2146 94108-56-2 4-(Trifluoromethoxy)benzenesulfonyl Chloride
- TCI T1910 777-44-6 3-(Trifluoromethyl)benzenesulfonyl Chloride
- TCI T1892 776-04-5 2-(Trifluoromethyl)benzenesulfonyl Chloride
- TCI T1795 2991-42-6 4-(Trifluoromethyl)benzenesulfonyl Chloride
- TCI B2186 39234-86-1 3,5-Bis(trifluoromethyl)benzenesulfonyl Chloride
Dari brosur TCI
- Gugus proteksi untuk amina primer dan sekunder
- Pengembangan farmasi: transformasi paroxetine yang diproteksi Nms menjadi turunan amida dan urea
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
Data dari brosur TCI
| Protection yield | up to 99% (NmsCl [T4302], DMAP [D1450], Et3N [T0424], CH2Cl2, 20-25°C) |
|---|---|
| Deprotection yield | up to 99% (PhSH [B0041], K2CO3 [P1748], THF, 20-25°C) |
| Protection yield (indole amine example) | 92% (NmsCl [T4302], DMAP, Et3N, CH2Cl2, 20-25°C) |
| Deprotection yield (indole amine example) | 98% (PhSH, K2CO3, THF, 20-25°C) |
| Protection yield (nitrophenylpiperazine example) | 97% (NmsCl [T4302], DMAP, Et3N, CH2Cl2, 20-25°C) |
| Deprotection yield (nitrophenylpiperazine example) | 99% (PhSH, K2CO3, THF, 20-25°C) |
| Protection yield (duloxetine-derived example) | 92% (NmsCl [T4302], DMAP, Et3N, CH2Cl2, 20-25°C) |
| Deprotection yield (duloxetine-derived example) | 96% (PhSH, K2CO3, THF, 20-25°C) |
| Protection yield (paroxetine-derived example) | 98% (NmsCl [T4302], DMAP, Et3N, CH2Cl2, 20-25°C) |
| Deprotection yield (paroxetine-derived example) | 91% (PhSH, K2CO3, THF, 20-25°C) |
| Tolerance RMgX | OK (Nms group) |
| Tolerance Hydride | OK (Nms group) |
| Tolerance H2 | OK (Nms group, hydrogenation with H2 gas) |
Sumber: TCI brochure RR217 (2025-07-10)
—
Referensi dari brosur TCI
- Philipp Spieß. Nms‐Amides: An Amine Protecting Group with Unique Stability and Selectivity Chemistry – A European Journal, 2023. doi:10.1002/chem.202301312
- Philipp Spieß. Deprotective Functionalization: A Direct Conversion of Nms‐Amides to Carboxamides Using Carboxylic Acids Angewandte Chemie International Edition, 2024. doi:10.1002/anie.202318304
- Philipp Spieß. Deprotective Lossen rearrangement: a direct and general transformation of Nms-amides to unsymmetrical ureas Chemical Science, 2024. doi:10.1039/d4sc04974h

