1
/
of
1
Nanografi
Nanografi NG0ST01BA04 Barium (Ba) Sputtering Target 99.5% 2" x 0.250"
Nanografi NG0ST01BA04 Barium (Ba) Sputtering Target 99.5% 2" x 0.250"
Regular price
Rp 11.091.000,00
Regular price
Sale price
Rp 11.091.000,00
Shipping calculated at checkout.
Quantity
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.
Couldn't load pickup availability
Barium (Ba) Sputtering Targets, Purity: 99.5%, Size: 2'', Thickness: 0.250'' dari Nanografi Advanced Materials.
Sputtering target digunakan untuk deposisi lapisan tipis (thin film) pada substrat melalui proses physical vapour deposition (PVD). Material ini umum dipakai dalam riset semikonduktor, sel surya, pelapisan optik, dan pengembangan material fungsional.
Spesifikasi
| Material | Barium |
|---|---|
| Simbol | Ba |
| Kemurnian | 99.5% |
| Ukuran | 2'' |
| Ketebalan | 0.250'' |
| SKU | NG0ST01BA04 |
Produk ini tersedia melalui sistem pre-order. Hubungi tim AMI Scientific untuk estimasi waktu pengiriman dan penawaran kuantitas besar.
Share
