1
/
of
1
Nanografi
Nanografi NG0ST01BO17 Boron Carbide (B4C) Sputtering Target, indium 99.5% 1" x 0.125"
Nanografi NG0ST01BO17 Boron Carbide (B4C) Sputtering Target, indium 99.5% 1" x 0.125"
Regular price
Rp 21.954.000,00
Regular price
Sale price
Rp 21.954.000,00
Shipping calculated at checkout.
Quantity
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.
Couldn't load pickup availability
Boron Carbide (B4C) Sputtering Targets, indium, Purity: 99.5%, Size: 1'', Thickness: 0.125'' dari Nanografi Advanced Materials.
Sputtering target digunakan untuk deposisi lapisan tipis (thin film) pada substrat melalui proses physical vapour deposition (PVD). Material ini umum dipakai dalam riset semikonduktor, sel surya, pelapisan optik, dan pengembangan material fungsional.
Spesifikasi
| Material | Boron Carbide |
|---|---|
| Simbol | B4C |
| Kemurnian | 99.5% |
| Ukuran | 1'' |
| Ketebalan | 0.125'' |
| SKU | NG0ST01BO17 |
Produk ini tersedia melalui sistem pre-order. Hubungi tim AMI Scientific untuk estimasi waktu pengiriman dan penawaran kuantitas besar.
Share
