1
/
of
1
Nanografi
Nanografi NG0ST01SI72 Silicon Dioxide (SiO2) Sputtering Target, Fused Quartz 99.995% 4" x 0.250"
Nanografi NG0ST01SI72 Silicon Dioxide (SiO2) Sputtering Target, Fused Quartz 99.995% 4" x 0.250"
Regular price
Rp 7.939.000,00
Regular price
Sale price
Rp 7.939.000,00
Shipping calculated at checkout.
Quantity
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.
Couldn't load pickup availability
Silicon Dioxide (SiO2) Sputtering Targets, Fused Quartz, Purity: 99.995%, Size: 4'', Thickness: 0.250'' dari Nanografi Advanced Materials.
Sputtering target digunakan untuk deposisi lapisan tipis (thin film) pada substrat melalui proses physical vapour deposition (PVD). Material ini umum dipakai dalam riset semikonduktor, sel surya, pelapisan optik, dan pengembangan material fungsional.
Spesifikasi
| Material | Silicon Dioxide |
|---|---|
| Simbol | SiO2 |
| Kemurnian | 99.995% |
| Ukuran | 4'' |
| Ketebalan | 0.250'' |
| SKU | NG0ST01SI72 |
Produk ini tersedia melalui sistem pre-order. Hubungi tim AMI Scientific untuk estimasi waktu pengiriman dan penawaran kuantitas besar.
Share
