4,4'-Bicyclohexanone adalah senyawa organik yang digunakan dalam berbagai reaksi kimia untuk sintesis senyawa kompleks. Bahan ini memiliki struktur siklik yang unik, yang memungkinkannya berperan sebagai bahan dasar dalam pembentukan senyawa heterosiklik dan non-heterosiklik. Dalam laboratorium, senyawa ini sering digunakan sebagai bahan baku untuk reaksi substitusi, oksidasi, dan reaksi katalitik yang memerlukan struktur siklik yang stabil.
Bahan ini memiliki sifat kimia yang stabil dalam kondisi normal, namun sangat reaktif terhadap kondisi tertentu seperti suhu tinggi atau pengaruh katalis. Karena struktur sikliknya yang kuat, senyawa ini memungkinkan pembentukan ikatan baru dengan berbagai grup fungsional. Sifat ini menjadikannya pilihan yang tepat untuk para peneliti yang membutuhkan bahan yang bisa beradaptasi dalam berbagai reaksi kimia.
Di laboratorium Indonesia, 4,4'-Bicyclohexanone digunakan secara luas dalam penelitian kimia organik, terutama dalam bidang sintesis senyawa kompleks dan pengembangan obat. Bahan ini juga sering ditemukan dalam proyek penelitian yang berkaitan dengan modifikasi senyawa untuk aplikasi industri dan farmasi.
- Sintesis senyawa heterosiklik untuk pengembangan obat
- Reaksi substitusi dalam sintesis senyawa kompleks
- Pembuatan bahan baku untuk reaksi katalitik dalam kimia organik
- Pengujian katalis dalam reaksi kimia industri
- Penelitian tentang struktur dan reaktivitas senyawa siklik
| Merek | TCI |
|---|---|
| Nomor CAS | 23391-99-3 |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | Chemistry > Building Blocks > Non-Heterocyclic Building Blocks |
| Ukuran kemasan | 25g |
| Bentuk fisik | Padat berbentuk kristal |
| Penyimpanan | Simpan dalam wadah tertutup rapat di tempat sejuk dan kering |
4,4'-Bicyclohexanone harus disimpan dalam wadah tertutup rapat di tempat sejuk dan kering, menjauh dari sumber panas dan reaktif. Bahan ini bersifat reaktif terhadap oksidator dan bahan kimia tertentu, sehingga perlu dihindari kontak langsung dengan bahan tersebut. Selama penanganan, pengguna harus menggunakan alat pelindung diri seperti sarung tangan dan masker untuk mencegah paparan langsung.
—




